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「AAA-BBB-NN」で表わされるTEM試料支持膜製品名称の与規則は以下の通りです。
AAA…TEM試料支持膜の種類を表します。
　　　　GLF：グラッシーフィルム
　　　　COL：コロジオンフィルム
　　　　PVF：フォルムバールフィルム
　　　　MCP：モノックスコンポフィルム
　　　　ELS：エラスチックカーボンフィルム
　　　　ELW：エラスチックウェッティフィルム
　　　　HSH：ハイスタビリティカーボンフィルム
　　　　HRC：ハイレゾカーボンフィルム
　　　　UHR：ウルトラハイレゾカーボンフィルム
　　　　SHR：スーパーハイレゾカーボンフィルム
　　　　HHR：ハイパーハイレゾカーボンフィルム
　　　　MHR：ミラクルハイレゾカーボンフィルム
　　　　GP15：グラフェン支持膜
　　　　C05、C10、C20：カーボンフィルム
　　　　S05、S10、S15：シリコンフィルム
　　　　SO：シリコンモノオキサイドフィルム
　　　　SO2：シリカフィルム
　　　　G05、G10、G20：ゲルマニウムフィルム

BBB…TEM試料支持膜を支持するグリッド(メッシュ）を表します。
　　　　C075：Cu75P、C10：Cu100P、C13：Cu130P、C15：Cu150P、C20：Cu200P、C30：Cu300P、C50：Cu500P
　　　　C2035：Cu2035、C3560：Cu3560
　　　　CsH05：Cu単孔(0.5mmΦ）、CsH10：Cu単孔(1.0mmΦ)、CsH15：Cu単孔(1.5mmΦ)
　　　　CsS0618：Cu単スロット（0.6mm×1.8mm）、CsS1018：Cu単スロット（1.0mm×1.8mm）
　　　　M05：Mo50P、M10：Mo100P、M15：Mo150P
　　　　T10：Ti100P、T15：Ti150P、T20：Ti200P
　　　　N10：Ni100P、N15：Ni150P
　　　　G200M：Au200メッシュ、G400M ：Au400メッシュ
　　　　P150M：Pt150メッシュ
　　　　C600M：Cu600メッシュ
　　　　A200M：Al200メッシュ、A300M：Al300メッシュ
　　　　MGNSC10：NSタイプのマイクログリッドを張り付けたCu100P
　　　　MGNSM10：NSタイプのマイクログリッドを張り付けたMo100P
　　　　MGNSG200M：NSタイプのマイクログリッドを張り付けたAu200M

NN…グリッドケースに収納する枚数を表します。
　　　10：10枚収納、25：25枚収納　（NN表示のない製品は25枚収納品のみの販売となります。）

例１…COL-C15-25：コロジオン支持膜（AAA＝COL）をCu150P（BBB＝C15)に支持した製品を25枚（NN＝25）収納。
例２…MHR-C600M-10：ミラクルハイレゾカーボンフィルム（AAA＝MHR）をCu600メッシュ（BBB=C600M）に支持した製品を
　　　10枚 (NN=10)収納。
例３…PVF-MGNSG200M-10：フォルムバールフィルム(AAA＝PVF)をNSタイプマイクログリッドが張り付けられたAu200メッシュ
　　　(BBB＝MGNSG200M)に支持した製品を10枚(NN=10)収納。

・高分子膜をベースにしてカーボン補強を施した支持膜です。
・粒状ノイズが少なく丈夫で使いやすい膜です。
・使用グリッド素材：Cu、Niを取り揃えています。。

・ニトロセルロースを主成分とするコロジオン膜をベースにしてカーボン補強を施した
　支持膜です。
・電子顕微鏡開発初期より使われてきた支持膜です。
・使用グリッド素材：Cu、Mo、Ni、Ti、Au、Pt、Al を取り揃えています。

※ Ptグリッドは 現在製造が中止されているため、弊社在庫がなくなり次第、
　関連製品の販売は中止となります。

・結晶性高分子膜をベースにしてカーボン補強を施した支持膜です。
・電子線照射耐性や機械的強度が高く扱いやすい支持膜です。
・使用グリッド素材：Cu、Mo、Al を取り揃えています。

・ポリビニルフォルマール膜をベースにしてカーボン補強を施した支持膜です。
・電子線照射耐性や機械的強度が比較的高く扱いやすい支持膜です。
・使用グリッド素材：Cu、Mo、Ni、Ti、Au、Pt、Al を取り揃えています。

※ Ptグリッドは 現在製造が中止されているため、弊社在庫がなくなり次第、
　関連製品の販売は中止となります。

・カーボン補強マイクログリッドを中間支持体とした製品（TSF2-1326～1328）は
　試料ドリフトの抑制効果があります。

・シリコンモノオキサイド（SiO)膜/カーボン膜/プラスチック膜からなる3層構造の
　支持膜です。
・弱疎水性表面を持つ支持膜です。
・使用グリッド素材：Cu100Pのみとなります。

・カーボン膜に薄めのプラスチック膜を裏打ちした支持膜です。
・電子線照射にも機械的にも丈夫な扱いやすい支持膜です。
・使用グリッド素材：Cu、Mo、Ni、Ti、Au、Pt、Al を取り揃えています。

※ Ptグリッドは 現在製造が中止されているため、弊社在庫がなくなり次第、
　関連製品の販売は中止となります。

・親水性プラスチック膜にカーボン膜を裏打ちした支持膜です。
・弱親水性表面を持つ支持膜です。弱親水性は約3か月間持続します。
・デシケーター内に保管し、温度変化の少ない環境に保管してください。
・使用グリッド素材：Cu、Mo、Ni、Ti、Au、Pt を取り揃えています。

※ Ptグリッドは 現在製造が中止されているため、弊社在庫がなくなり次第、
　関連製品の販売は中止となります。

・マイクログリッドをカーボン膜で挟み込んだサンドイッチ構造の支持膜です。
・試料ドリフトの抑制効果を持つ高分解能観察に適した支持膜です。
・カーボン膜厚の違いにより、Hシリーズ（HSH)、Uシリーズ（HSU)、および
　Sシリーズ（HSS)があります。
・カーボン膜厚： HSH(約20nm) ＞ HSU(約15nm) ＞ HSS(約10nm)
・使用グリッド素材：Cu、Mo、Ni、Ti、Au を取り揃えています。

・カーボン膜（約15nm）とマイクログリッドを一体化した複合構造の支持膜です。
・10nm程度以上のナノ粒子やネガティブ染色したウイルス等の観察に適した高分解能
　観察用支持膜です。
・使用グリッド素材：Cu、Mo、Ni、Ti、Au、Al を取り揃えています。

・カーボン膜（約10nm）とマイクログリッドを一体化した複合構造の支持膜です。
・6nm程度以上のナノ粒子やネガティブ染色したウイルス等の観察に適した高分解能
　観察用支持膜です。
・使用グリッド素材：Cu、Mo、Ni、Ti、Au、Al を取り揃えています。

・カーボン膜（約7nm）とマイクログリッドを一体化した複合構造の支持膜です。
・6nm程度以上のナノ粒子の観察に適した高分解能観察用支持膜です。
・使用グリッド素材：Cu、Mo、Au、Al を取り揃えています。

・カーボン膜（約5nm）とマイクログリッドを一体化した複合構造の支持膜です。
・4nm程度以上のナノ粒子の観察に適した高分解能観察用支持膜です。
・使用グリッド素材：Cu、Mo、Au、Al を取り揃えています。

・カーボン膜（約3nm）とマイクログリッドを一体化した複合構造の超薄支持膜です。
・3nm程度以上のナノ粒子の観察に適した高分解能観察用支持膜です。
・使用グリッド素材：Cu、Mo、Au を取り揃えています。

・カーボン補強されたマイクログリッド上に5μm程度のサイズのグラフェン片を分散支持した支持膜です。
・グラフェンによる有効視野カバー率は30％程度です。
・使用グリッド素材：Cuのみとなります。

・カーボン(C)蒸着膜の単層支持膜です。
・膜厚により、C05（5nm程度）、C10 (10nm程度)、C20（20nm程度）の3シリーズがあります。
・C05シリーズは、金属グリッド上に中間支持体として貼り付けたマイクログリッドの上にC膜を支持しています。

・C05シリーズ：4nm以上のナノ粒子に適した高分解能観察用支持膜です。
　　　　　　　　使用グリッド素材：Cu、Mo、Au を取り揃えています。
・C10シリーズ：8nm以上のナノ粒子に適した高分解能観察用支持膜です。
　　　　　　　　使用グリッド素材：Cu、Mo、Au を取り揃えています。
・C20シリーズ：15nm以上のナノ粒子に適した高分解能観察用支持膜です。
　　　　　　　　使用グリッド素材：Cu、Mo、Ni、Ti、Au、Al を取り揃えています。

・シリコン(Si)蒸着膜の単層支持膜（アモルファスシリコン膜）です。
・カーボン膜よりも密度は大きいですが、電子線透過時のエネルギーロスが小さいためEELS分析に有利です。
・膜厚により、S05（5nm程度）、S10 (10nm程度）、S15 (15nm程度）の3シリーズがあります。
・S05シリーズは、金属グリッド上に中間支持体として貼り付けたマイクログリッドの上にSi膜を支持しています。

・S05シリーズ：5nm以上のナノ粒子に適した高分解能観察用支持膜です。
　　　　　　　　使用グリッド素材：Cu、Mo、Au を取り揃えています。
・S10シリーズ：10nm以上のナノ粒子に適した高分解能観察用支持膜です。
　　　　　　　　使用グリッド素材：Cu、Mo、Au を取り揃えています。
・S15シリーズ：15nm以上のナノ粒子に適した高分解能観察用支持膜です。
　　　　　　　　使用グリッド素材：Cu、Mo、Au、Al を取り揃えています。

・SiO蒸着膜（厚さ15～20nm）の支持膜です。
・表面には酸化被膜（SiO２層）が形成されている可能性があります。
・強アルカリ以外の薬品に対する高い耐性を持ち、弱疎水性表面を持つ支持膜です。
・使用グリッド素材：Cu、Mo、Ti、Au を取り揃えています。

・SiO2蒸着膜（厚さ15～20nm）の支持膜です。
・強アルカリ以外の薬品に対する高い耐性を持っています。
・高温耐性が高く、親水性表面を持つ支持膜です。
・使用グリッド素材：Cu、Mo、Ti、Au を取り揃えています。

・ゲルマニウム(Ge)蒸着膜の単層支持膜です。
・膜厚により、G05（5nm程度）、G10 (10nm程度)、G20(20nm程度）の3シリーズがあります。
・G05シリーズは、金属グリッド上に中間支持体として貼り付けたマイクログリッドの上にGe膜を支持しています。

・G05シリーズ：5nm以上のナノ粒子に適した高分解能観察用支持膜です。
　　　　　　　　使用グリッド素材：Cu、Mo、Au を取り揃えています。
・G10シリーズ：10nm以上のナノ粒子に適した高分解能観察用支持膜です。
　　　　　　　　使用グリッド素材：Cu、Mo、Au を取り揃えています。
・G20シリーズ：20nm以上のナノ粒子に適した高分解能観察用支持膜です。
　　　　　　　　使用グリッド素材：Cu、Mo、Au、Al を取り揃えています。